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空間環(huán)境模擬試驗設備，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環(huán)套件下測試器件或樣品。該系統(tǒng)具有計算機控制、安全連鎖，以及多級密碼授權(quán)訪問保護的功能。它可以用于超過24小時的圈子全自動熱、冷循環(huán)情況下測試器件/樣品，溫度條件通過程序定義。該系統(tǒng)z通常的應用之一是太空模擬?？臻g環(huán)境模擬試驗設備腔體的大致尺寸為：直徑24"，長度43"。帶有一個16"x32"的滑動加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個平臺的溫度均勻度...

熱真空試驗箱是專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質(zhì)而設計的，工作時可使工作室內(nèi)保持一定的真空度，并能夠向內(nèi)部充入惰性氣體，特別是一些成分復雜的物品也能進行快速干燥，采用智能型數(shù)字溫度調(diào)節(jié)儀進行溫度的設定、顯示與控制。熱真空試驗箱外殼由鋼板沖壓折制、焊接成型，外殼表面采用高強度的靜電噴塑涂裝處理，漆膜光滑牢固。工作室采用碳鋼板或不銹鋼板折制焊接而成，工作室與外殼之間填充保溫棉。工作室的內(nèi)部放有試品擱板，用來放置各種試驗物品，工作室外壁的四周裝有云母加熱器。門封條采用硅橡膠條密封，...

進口光學鍍膜機主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜(控制電柜、電子槍電柜)組成，其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。進口光學鍍膜機工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當?shù)臏囟龋牧鲜軣岷笳舭l(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。進口光學鍍膜機維護與保養(yǎng)主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設備的清洗與保養(yǎng)。1.定期更換擴散泵油擴散泵油使用一段時...

我們的優(yōu)勢｜離子束刻蝕NANO-MASTER的離子束刻蝕系統(tǒng)有很強的適應性，可以根據(jù)不同的應用建立不同的結(jié)構(gòu)，不同的樣品臺和離子源配置可實現(xiàn)不同的應用范圍。系統(tǒng)中的樣品臺可實現(xiàn)正負90°傾斜、旋轉(zhuǎn)、水冷和背氦冷卻。NM成熟的技術(shù)可控制基片溫度在50℃以內(nèi)。通過傾斜和旋轉(zhuǎn)，深溝可切成斜角，通過控制側(cè)壁輪廓和徑向可提高均勻性，不同的構(gòu)造不同的應用可選擇不同的選配項，也可增加濺射實現(xiàn)刻蝕之后的涂覆保護。應用十分廣泛。NANO-MASTER的離子束刻蝕在行業(yè)中非常有競爭力，它憑什么可...

NANO-MASTERNLD-4000型等離子增強原子層沉積系統(tǒng)可以提供高品質(zhì)的薄膜沉積，通過配套ICP離子源系統(tǒng)可以支持PEALD和T-ALD等廣泛應用。眾多的優(yōu)勢配置，使得NLD-4000型系統(tǒng)具有許多優(yōu)勢：√超高的薄膜均勻性√良好的粘附力√超凈的沉積（高真空支持）√出色的工藝控制√高度的可重復性（計算機全自動工藝控制）√易使用（可直接調(diào)用編好的工藝程序）√運行可靠（所有核心組件均帶有保護）√低維護（完整的安全互鎖）√高、低溫基片樣品臺√小的占地面積26”x44”√全自動...

隨著光學鍍膜設備的技能開展不斷改造，而硬質(zhì)薄膜的設計向著多元化、多層膜的方向開展。變成現(xiàn)在公司選擇的鍍膜技能。今天咱們經(jīng)過專家剖析后，給予具體作答。鍍膜機的正常操作辦法應當參閱操作手冊的指示操作。不過大致的操作程序，咱們簡略的說一下吧：1.查看光學鍍膜設備各操作操控開關(guān)是不是在"關(guān)"位置。2.翻開總電源開關(guān)，光學鍍膜設備送電。3.低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，發(fā)動升鐘罩閥，鐘罩升起。4.裝置固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在滾動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱...

隨著原子層沉積技術(shù)與其他先進技術(shù)不斷融合以及人們對原子層沉積設備的不斷改進，諸如“等離子體增強原子層沉積技術(shù)”、“空間式原子層沉積技術(shù)”、“流化床原子層沉積技術(shù)”等新型原子層沉積技術(shù)逐漸出現(xiàn)并在一定程度上有效解決了傳統(tǒng)熱原子層沉積技術(shù)所面臨的諸多難題。在過去二十多年，等離子體增強原子層沉積技術(shù)發(fā)展迅速。通過巧妙設計等離子體引入方式，人們已經(jīng)設計出各種等離子體增強原子層沉積設備。從文獻報道來看，針對太陽能光伏領(lǐng)域的應用，一套成熟的空間式原子層沉積設備需保證每小時超過3000片1...

我們大部分人都知道等離子有清洗活化的功能，今天我們來探討下等離子去膠機。等離子去膠機反應機理：在干法等離子去膠技術(shù)中，氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機反響室中受高頻及微波能量效果，電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子O*、氧分子和電子等混合的等離子體.等離子去膠操作方法：將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向，推入真空室兩電極間，抽真空到1.3Pa，通入恰當氧氣，堅持真空室壓力在1.3-13Pa，加高頻功率，在電極間發(fā)生淡紫色輝光放電，經(jīng)過調(diào)理功率、流量等技術(shù)參數(shù)，可得不一樣去膠速...