原子層沉積技術經過四十多年的發(fā)展，無論是在沉積材料的種類還是具體沉積方法的擴展與改進上，都已經取得了長足進步，在眾多領域更是展現(xiàn)出令人期待的商業(yè)前景。但傳統(tǒng)的熱原子層沉積技術在發(fā)展過程中仍面臨著一些挑戰(zhàn)。比如：原子層沉積前驅體往往都是金屬有機化合物，合適的前驅體種類較少而且價格昂貴；傳統(tǒng)熱原子層沉積技術因需要長時間的惰氣吹掃以保證隨后的表面自限制薄膜生長，沉積速率較慢，不適合大規(guī)模工業(yè)生產；
此外，熱原子層沉積技術難以用來沉積金屬Ti，Ta等特殊材料。隨著原子層沉積技術與其他先進技術不斷融合以及人們對原子層沉積設備的不斷改進，諸如“等離子體增強原子層沉積技術”、“空間式原子層沉積技術”、“流化床原子層沉積技術”等新型原子層沉積技術逐漸出現(xiàn)并在一定程度上有效解決了傳統(tǒng)熱原子層沉積技術所面臨的諸多難題。
從文獻報道來看，針對太陽能光伏領域的應用，一套成熟的空間式原子層沉積設備需保證每小時超過3000片156×156mm2規(guī)格Si片的生產能力。由于空間式原子層沉積設備中沉積速率不再受限于單個循環(huán)步驟的累計時間，僅取決于襯底或前驅體噴嘴在兩個半反應區(qū)間移動所需的時間，而薄膜厚度也僅取決于噴頭上所集成的沉積單元數(shù)量，若能保證1s通過一個這樣規(guī)格的Si片，目前的設計*可以滿足工業(yè)化應用需求。
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更新時間：2020-06-02 
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