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PEALD系統(tǒng)四項主要組成部分詳細(xì)介紹

更新時間:2023-03-21      瀏覽次數(shù):681
  PEALD系統(tǒng)是一種化學(xué)氣相沉積技術(shù),廣泛應(yīng)用于微電子設(shè)備制造、太陽能電池和納米材料研究等領(lǐng)域。以原子層沉積技術(shù)為基礎(chǔ),通過在反應(yīng)室中交替注入兩種氣體,執(zhí)行反應(yīng)和清洗過程,實現(xiàn)對表面沉積物的逐層生長。
  
  PEALD系統(tǒng)的組成由四個主要部分構(gòu)成:反應(yīng)室、進(jìn)氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。其中反應(yīng)室是最重要的組成部分,用于承載沉積表面和反應(yīng)氣體。反應(yīng)室具有良好的密封性能,以確保反應(yīng)氣體能夠準(zhǔn)確傳遞到沉積表面。反應(yīng)室內(nèi)部的沉積表面是由基板表面形成的,在表面形成的沉積物層上進(jìn)行PEALD沉積。
  
  1、進(jìn)氣系統(tǒng)是用于控制反應(yīng)室內(nèi)的氣體流量和壓力的系統(tǒng)。它通常包括兩個進(jìn)氣口,一個用于注入反應(yīng)氣體,另一個用于清洗反應(yīng)室。這些氣體的流量和壓力受到精密控制,以確保PEALD沉積具有高度的均勻性和可重復(fù)性。
  
  2、真空系統(tǒng)是保持反應(yīng)室處于高真空狀態(tài)的關(guān)鍵組成部分。它包括真空管和泵,以便將空氣和雜質(zhì)氣體從反應(yīng)室中抽取出來。高質(zhì)量的真空狀態(tài)對于PEALD沉積過程非常重要,因為它有助于反應(yīng)氣體沉積在基板表面上。
  
  3、控制系統(tǒng)通常是一個計算機(jī)控制的系統(tǒng),用于實時監(jiān)控和控制各種參數(shù),如反應(yīng)氣體流量,真空度和沉積速率。這個系統(tǒng)通過傳感器和監(jiān)測器進(jìn)行反應(yīng)數(shù)據(jù)的獲取和分析,并向操作員提供PEALD沉積過程中的實時反饋信息。
  
  PEALD系統(tǒng)的性能特點:
  
  1、高準(zhǔn)確性:該系統(tǒng)可以在超薄的基板上制備出高質(zhì)量的薄膜,具有很高的準(zhǔn)確性。
  
  2、單一分子沉積:該系統(tǒng)可以單一分子的進(jìn)行沉積,可以有效的控制化學(xué)反應(yīng)。
  
  3、非常規(guī)材料:該系統(tǒng)可以非常規(guī)材料,如非晶硅、氮化硅、銅等進(jìn)行沉積,使其應(yīng)用范圍更加廣泛。
  
  4、使用方便:該系統(tǒng)操作簡單,只需要進(jìn)行一些簡單的調(diào)節(jié)就可以進(jìn)行沉積。
  
  5、高質(zhì)量:基于單粒子級別的反應(yīng),制備的薄膜具有高質(zhì)量和優(yōu)異的成膜率,同時具有良好的抗氧化性能。
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